Замкните оборудование обработки газа смогите отрегулировать газы используемые в вытравлять процессы процессов и низложения химического пара в полупроводнике, жидком кристалле, и индустриях солнечной энергии, включая SiH4, SiH2Cl2, PH3, B2H6, TEOS, H2, CO, NF3, SF6, C2F6, WF6, NH3, N2O, и так далее.
Метод лечения выхлопного газа
Согласно характеристикам обработки выхлопного газа, обработку можно разделить в 4 вида обработки:
1. Тип воды моя (обработка коррозионных газов)
2. Окисляя тип (общающся с горючим и токсическими газами)
3. Адсорбция (согласно типу материала адсорбцией, который нужно общаться с соответствуя выхлопным газом).
тип сгорания 4.Plasma (все типы отработанных газов можно обработать).
Каждый вид обработки имеет свои собственные преимущества и недостатки так же, как свой объем применения. Когда метод лечения стирка воды, оборудование дешево и просто, и может только отрегулировать расстворимые в воде газы; ряд применения типа электрической воды моя выше чем это из типа стирки воды, но эксплуатационные расходы высоки; сухой тип имеет хорошую эффективность обработки, и не применим к подаче газа которая легка быть закупоренным или пропущенным.
Химикаты и их субпродукты обыкновенно используемые в индустрии полупроводника можно классифицировать согласно их химическим свойствам и их различным рядам:
1. Огнеопасные газы как SiH4H2, etc.
2. Токсические газы как AsH3, PH3, etc.
3. Коррозионные газы как HF, HCl, etc.
4. Газы оранжереи как CF4, NF3, etc.
С вышеуказанных 4 газов вредный к окружающей среде или человеческому телу, предотвратить свое сразу излучение в атмосферу, поэтому общий завод полупроводника установлен с большой централизованной системой очистки выхлопного газа, но эта система только вытыхание воды scrubbing, поэтому свое применение ограничено к международным расстворимым в воде газам, и не может общаться с вечно-изменением и тонким разделением выхлопного газа процесса полупроводника. Поэтому, необходимо выбрать и соответствовать соответствуя оборудование обработки выхлопного газа согласно характеристикам газа производным от каждого процесса для того чтобы разрешить проблему выхлопного газа в небольшом пути. По мере того как рабочая зона главным образом далеко от центральной системы очистки выхлопного газа, часто должной к руководству характеристик газа к накоплению кристаллизации или пыли в трубопроводе, приводящ в закупоривать трубопровода водя к утечке газа, и в серьезных случаях, даже для того чтобы причинить взрыв, не смогите обеспечить что безопасность работы штата места. Поэтому, в потребности рабочей зоны установить небольшое оборудование обработки выхлопного газа соответствующее для характеристик отростчатого газа, для уменьшения застойного выхлопного газа в рабочей зоне, обеспечить безопасность персонала.
